建模干货|次世代美少女战士建模图文步骤讲解

次世代建模是利用高模烘焙的法线贴图回帖到低模上，让低模在游戏引擎里可以及时显示高模的视觉效果。模型面数比较高，采用法线贴图描绘物体表面细节的凸凹变化；颜色贴图表现物体的颜色和纹理；高光贴图表现物体在光线照射下的质感，增加贴图的大小。具体流程如下：

1. 根据二维原画设定制作中模。

2. 导进Zbrush进行高模雕刻。

3. 拓补低模。

4. 展分UV。

5. 烘焙（将高模细节烘焙到低模上面）。

6. 绘制贴图。

7. 引擎中调整。

基础裸模制作：利用Zbrush制作基础裸模，完成角色形体模型、人体的精细雕刻、面部雕刻等工作，最后完成人体裸模上色及实体风格头发雕刻。这样，次世代人物建模初具雏形。

制作衣服装备：完成高模制作后，将模型导入Maya制作衣服和装备，包括人物角色的硬表面机械盔甲制作、角色装备的中模大型制作、高模雕刻、特殊零部件制作等。如果衣服布料较多，使用Marvelous Designer运算。低模制作完后进行卡线处理。

雕刻高模细节：将卡完线的模型导入Zbrush，升面并雕刻细节，主要处理衣服的褶皱、铠甲磨损及人物身上的细节。为避免卡顿，模型部件应分组制作。

拓扑低模：对高低模进行匹配，根据模型结构进行拓扑。降低模型面数并保持布线规范。拓扑软件可使用maya、Topogun等。

拆UV：将拓扑好的低模展开UV用于后期制作贴图。展UV可直接在Maya里完成，或使用RizomUV等软件。注意UV排布及可能需要的多张uv。

贴图：在贴图拓扑前完成高模减面整合、Zbrush拓扑低模、UV拆分、摆放、游戏角色中光滑组软硬边。将低模和烘焙好的贴图导入Sp(substance painter)，绘制材质贴图。

渲染：调整模型姿势贴上贴图，调整灯光，使用Arnold渲染器渲染出图。至此，次世代人物建模完成。